NEW POWER PLASMA

射频发生器产品

射频发生器是向薄膜太阳能电池和LCD制造的核心部分的前工艺(CVD, Dry Etcher)设备中可形成等离子的腔体提供高频电源的装置。在LCD制造工艺中，将商业电源（频率：50/60Hz）的三相220V、400V、440V或480V的交流电转换为13.56MHz或以上的高频电源，被用作Source射频电源。

最近半导体电路的模式走向细微化和三维立体化，工艺变得非常复杂。射频电源趋向多种频率（2MHz、3.2MHz、13.56MHz、27.12MHz、60MHz）、多功能（Pulse、变频等）发展，半导体ALD、CVD工艺则趋向尖端多媒体功能输出功率为1~3kW级的射频电源。为提高工艺产出率，在抑制工艺电弧、缩短匹配时间、减少反射波（Reflected Power）、监测腔体环境、瞬间停电等方面要求增加辅助功能。